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4. Stock, Nr. 30 Dongling-Straße, Stadt Houxi, Bezirk Jimei, Stadt Xiamen
Puls-Gleichrichter mit Rückwärtsbetrieb
Dualausgangs Positiv‑Negativ Impulsnetzteil
Dieses Pulsstromversorgungssystem wird hauptsächlich für die Galvanisierung von Leiterplatten mit hohen Aspektverhältnissen (16:1, 20:1, 40:1) eingesetzt. Es liefert herausragende Ergebnisse bei Prozessen wie Durchkontaktierungen, vergrabenen Löchern und Blindlöchern, insbesondere bei Leiterplatten mit einer Dicke von über 3 mm. Das T/P‑Verhältnis kann dabei über 95 % betragen. Im Vergleich zu Gleichstrom‑Galvanisierungsnetzteilen zeichnet sich das Pulsstromversorgungssystem durch eine höhere Galvanisierungseffizienz und eine bessere Beschichtungsqualität aus.
Hochleistungs Hochfrequenz Gleich und Wechselstromversorgung mit positiven und negativen Impulsen
1. Anwendbar bei der Kupfer-Elektroplattierung auf Leiterplatten, der Blindlochplattierung, der Lochfüllung sowie anderen Kupferplattierverfahren; die Tiefenplattierleistung ist mit internationalen Marken vergleichbar oder übertrifft sie. 2. Geeignet für die Elektroplattierung von unregelmäßig geformten Gold- und Silberschmuckstücken sowie anderer unregelmäßig geformter Werkstücke mit hohen Anforderungen an die Oberflächenbehandlung. 3. Verwendet zur Oxidation und Färbung von Aluminiumwerkstoffen.
Kleines Hochpräzisions Positiv Negativ Impuls Netzteil
1. Geeignet für die Galvanisierung von Leiterplatten mit hohen Aspektverhältnissen (16:1, 20:1, 40:1). Es bietet eine herausragende Leistung, insbesondere bei Platinen mit einer Dicke von über 3 mm in Verfahren wie Durchkontaktierungen, Tiefbohrungen und Blindlöchern. 2. Anwendung bei der Galvanisierung von unregelmäßig geformten Gold- und Silberschmuckstücken sowie anderen unregelmäßig geformten Werkstücken, die eine hohe Beschichtungsqualität erfordern.
Mikro Arc Oxidations Stromversorgung
1. Ausgangsstrom der Stromversorgung: 0–250 A einstellbar; 2. Ausgangsspannung der Stromversorgung: 0–750 V einstellbar; 3. Mikro‑Bogenoxidationszeit: softwaregesteuert und je nach Prozess frei einstellbar;